FUJIKIN富士金FUCL-115B-0.023低流量气体控制单向阀 青岛平山技研刘15621198049
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FUJIKIN富士金FUCL-115B-0.023低流量气体控制单向阀 青岛平山技研刘15621198049
核心特点
超低流量控制:
0.023 SLM(标准升/分钟),适用于 微量气体 精确控制(如 SiH₄、H₂、NF₃ 等)。
高精度 & 快速响应:
精度通常可达 ±1% F.S.(满量程),响应时间 <1 秒。
兼容腐蚀性/特种气体:
阀体材质通常为 SS316L,可选 EPDM、PTFE、Kalrez® 密封,适用于 腐蚀性、高纯度气体。
主要应用
半导体制造:
CVD(化学气相沉积)、蚀刻(Etching)工艺中的 SiH₄、NH₃、NF₃ 等气体控制。
光伏行业:
硅薄膜沉积(如 SiH₄/H₂ 混合气体流量调节)。
特种气体输送:
实验室、分析仪器用 高纯度气体 精密控制。
生物医药:
反应釜气体流量调节(如 CO₂、O₂ 控制)。
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